點擊圖片查看大圖ZY-1185設(shè)備采用全自動的控制方式，合理配備多套新研制的陰極電弧，有效保障弧源濺射的穩(wěn)定性與均勻性，采用先進的多路進氣系統(tǒng)，精準控制氣體流量，滿足您多種化合物膜層需求。裝載大功率脈沖偏壓電源，極大提高電粒子能量，從而獲得的膜層結(jié)合力和光潔度。
技術(shù)參數(shù)：
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爐體尺寸 |
Φ1100×H850 |
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有效空間 |
Φ550×H500 |
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應用技術(shù) |
HCD+ARC |
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生產(chǎn)周期 |
3-5小時/爐 |
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靶材數(shù)量 |
12PCS |
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工件轉(zhuǎn)架結(jié)構(gòu) |
下轉(zhuǎn)架結(jié)構(gòu) |
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標準涂層 |
TIN、CRN、ALTIN等 |
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可選涂層 |
TIALCRN、TISIN、DLC等 |
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控制系統(tǒng)及軟件 |
PLC+觸摸屏 組態(tài)軟件 工業(yè)PC+ PLC+觸摸屏 自己開發(fā)的專用鍍膜軟件 |
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硬件 |
分子泵、羅茨泵、旋片泵 弧電源、脈沖偏壓電源 |
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外圍尺寸 |
L4200×W3200×H2200 |
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功率 |
70KW |
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適用范圍 |
注塑、五金、壓鑄等模具 各種零件及切削刀具等 |
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產(chǎn)量/爐 |
銑刀Φ10×70 680 刀粒Φ18×6 5000 滾刀Φ80×80 48 模具 500KG |
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配套條件 |
循環(huán)水壓力：2-3KG 水量 10T/H 壓縮空氣：4-6KG |
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工作氣體 |
Ar、N2、O2、C2H2等 |
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